福岡超集積半導体ソリューションセンター開設記念フォーラムで当社社員が講演しました。
お知らせ
2025年10月15日に開催された「福岡超集積半導体ソリューションセンター開設記念フォーラム」の一部で、当社 流体機器技術部 部長の岡元浩幸が登壇し、事業内容と半導体洗浄に関する新技術について講演いたしました。約200名の参加者に向けて、次世代半導体向けに開発したフラックス洗浄装置の概要、強みなどをご紹介しました。
当社は今後、半導体後工程の洗浄分野において、九州における半導体産業の中核を担うとともに、世界の半導体業界にも貢献すべく、さらに技術を発展させてまいります。
【リリース】次世代半導体向けフラックス洗浄装置の開発について
